[发明专利]一种三维移动阴极磁控溅射靶无效

专利信息
申请号: 201310125541.2 申请日: 2013-04-12
公开(公告)号: CN104099574A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 韩裕鲲 申请(专利权)人: 昆山艾诺美航天材料有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种三维移动阴极磁控溅射靶,其主结构包括支撑平台、水平导轨、垂直导轨、垂直移动平台、靶材支架。所述支撑平台是用来承载所述垂直移动平台和所述靶材支架并沿所述水平导轨运动。所述支撑平台底部左右两端各有两个轮子可以沿导轨滚动,右端通过螺纹孔与一根水平的螺杆相连,水平螺杆控制所述支撑平台的水平移动。中间部位固定所述垂直导轨及其电动控制装置。对于大面积的复合曲面基材,由于真空室空间的限制,移动基材是不现实的,只靠一维的平面运动不能实现镀膜的连续性和均匀性。三维移动的阴极磁控溅射靶材,能够实现快速、均匀的大面积镀膜。
搜索关键词: 一种 三维 移动 阴极 磁控溅射
【主权项】:
三维移动阴极磁控溅射靶,其特征在于:包括支撑平台、纵向导轨、垂直导轨、垂直移动平台、靶材支架,所述支撑平台左右两端各有两个轮子可以沿水平导轨滚动,承载着垂直移动平台和靶材支架,所述支撑平台右端通过螺纹孔与一根水平的螺杆相连,水平螺杆控制所述支撑平台的水平移动,中间部位固定所述垂直导轨及其电动控制装置。
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