[发明专利]一种镍-立方氮化硼薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201310127959.7 | 申请日： | 2013-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN103205791A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 姚怀;刘雅琴;刘伟;苌清华;杜三明 | 申请（专利权）人： | 河南科技大学 |
| 主分类号： | C25D15/00 | 分类号： | C25D15/00;C25D3/12;C25D5/20 |
| 代理公司： | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人： | 罗民健 |
| 地址： | 471000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 一种镍-立方氮化硼薄膜的制备方法，首先对阴阳极基材和立方氮化硼粉体进行洁净处理，然后将处理过的阴阳极基材和立方氮化硼粉体放入到镀液中进行电镀，镀液由硼酸、氯化铵、氨基磺酸镍和十二烷基硫酸钠溶解在去离子水中制成，同时，在电镀时向镀液中施加功率为250-260W、频率为20-40KHz的超声波。本发明在电镀时引入超声波并优化镀液的配方和工艺参数，使得电镀法生产的镍-立方氮化硼薄膜镀层中立方氮化硼粉体分布均匀，无团聚现象，同时，薄膜中的镍层也相对平整，立方氮化硼粉体在薄膜中没有团聚现象，粉体的镶嵌较为牢固。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 立方 氮化 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镍‑立方氮化硼薄膜的制备方法，首先对阴阳极基材和立方氮化硼粉体进行洁净处理，然后将处理过的阴阳极基材和立方氮化硼粉体放入到镀液中进行电镀，其特征在于：所述镀液由硼酸、氯化铵、氨基磺酸镍和十二烷基硫酸钠溶解在去离子水中制成，电镀时每升镀液中含有硼酸30‑50g、氯化铵5‑15g、氨基磺酸镍280‑320g、十二烷基硫酸钠0.6‑1.0g以及立方氮化硼粉体25‑45g，同时，在电镀时向镀液中施加功率为250‑260W、频率为20‑40KHz的超声波。
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