[发明专利]滤光片及其制备方法、彩膜基板和显示装置有效
申请号: | 201310130924.9 | 申请日: | 2013-04-16 |
公开(公告)号: | CN103235356A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 张洪术;邵喜斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02B5/26 | 分类号: | G02B5/26;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种滤光片及其制备方法、彩膜基板和显示装置,涉及显示领域,可提高对入射光(或背光)的利用率,避免入射光(或背光)转化为无用的热耗。所述滤光片包括相互贴合的第一介质膜,第二介质膜和第三介质膜;所述滤光片包括第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域;第一介质膜在滤光片的第一像素区域被去除,第二介质膜在滤光片的第二像素区域被去除,第三介质膜在滤光片的第三像素区域被去除;第一介质膜反射第一波长范围内的光线,透射第一波长范围外的光线;第二介质膜反射第二波长范围内的光线,透射第二波长范围外的光线;第三介质膜反射第三波长范围内的光线,透射第三波长范围外的光线。 | ||
搜索关键词: | 滤光 及其 制备 方法 彩膜基板 显示装置 | ||
【主权项】:
一种滤光片,其特征在于,所述滤光片包括相互贴合的第一介质膜,第二介质膜和第三介质膜;所述滤光片包括第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域;所述第一介质膜在所述滤光片的所述第一像素区域被去除,所述第二介质膜在所述滤光片的所述第二像素区域被去除,所述第三介质膜在所述滤光片的所述第三像素区域被去除;所述第一介质膜反射第一波长范围内的光线,透射第一波长范围外的光线;所述第二介质膜反射第二波长范围内的光线,透射第二波长范围外的光线;所述第三介质膜反射第三波长范围内的光线,透射第三波长范围外的光线。
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