[发明专利]光掩模坯料及其制造方法

摘要

本发明提供光掩模坯料及其制造方法。本发明的目的是提供一种光掩模坯料，其中存在很少的翘曲并且其中在光掩模制造工序结束后翘曲变化量也小。首先，沉积相移膜(S101)，接着，在260℃至320℃的温度范围内对所述相移膜进行热处理四小时以上(S102)，并且然后在其上进行闪光照射处理(S103)。在上述处理后在所述相移膜上沉积遮光膜(S104)，由此获得光掩模坯料(S105)。

主权项

一种光掩模坯料，其中在对曝光的光透明的衬底上形成有包含至少一种功能性透明膜的层压体，其中：在如下步骤中的任一个步骤之后，对所述层压体进行至少一次热处理：沉积所述功能性透明膜的步骤；在沉积所述功能性透明膜之后进行至少一次闪光照射处理的步骤；以及在其上形成与所述功能性透明膜不同的功能性膜的层以形成所述层压体的步骤。