[发明专利]一种测试结构及测试方法有效
申请号: | 201310151381.9 | 申请日: | 2013-04-27 |
公开(公告)号: | CN104124230B | 公开(公告)日: | 2017-08-01 |
发明(设计)人: | 甘正浩;冯军宏 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;G01R31/26 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所11336 | 代理人: | 董巍,高伟 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种测试结构及测试方法,涉及半导体技术领域。本法提供的测试结构包括N个并联的CMOS反相器,每个所述CMOS反相器包括PMOS和NMOS;其中,每个所述CMOS反相器的输入端与输出端相连;并且,N为大于等于2的自然数。本发明的测试结构,通过将N个CMOS反相器(Inverter)并联,并将每个CMOS反相器的输入端与输出端相连作为测试结构,可以快速分析各CMOS反相器中的PMOS或NMOS的阈值电压的差异,进而快速分析半导体器件的失配情况。本发明的测试方法,使用上述测试结构实现,因此也可以快速分析各CMOS反相器中的PMOS或NMOS的阈值电压的差异,进而快速分析半导体器件的失配情况。 | ||
搜索关键词: | 一种 测试 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种测试结构,其特征在于,所述测试结构包括N个并联的CMOS反相器,每个所述CMOS反相器包括PMOS和NMOS;其中,所述N个并联的CMOS反相器中的各个PMOS的源极相连、各个NMOS的漏极均接地,每个所述CMOS反相器的输入端与自身的输出端相连,各所述CMOS反相器中的PMOS的布局相同、NMOS的布局不同,或者各所述CMOS反相器中的NMOS的布局相同、PMOS的布局不同;并且,N为大于等于2的自然数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310151381.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:CMOS中P型源漏离子注入对准度的监控结构及方法
- 下一篇:一种新型压杆开关