[发明专利]防篡改集成电路有效

专利信息
申请号: 201310175059.X 申请日: 2013-05-13
公开(公告)号: CN103426778A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 森克·奥斯特敦;迈克尔·齐恩曼 申请(专利权)人: NXP股份有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L23/58
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 根据本发明的一个方面,构想了一种包括物理不可克隆功能的集成电路,在所述集成电路的钝化层中至少部分地实现所述物理不可克隆功能。根据本发明的另一方面,构想了一种用于制造集成电路的相应方法。根据本发明的另一方面,构想了一种包括所述类型集成电路的电子设备。
搜索关键词: 篡改 集成电路
【主权项】:
一种用于制造集成电路(100)的方法,所述方法包括在所述集成电路(100)的钝化层(102)中至少部分地实现物理不可克隆功能PUF,其特征在于:(a)提供基本结构,所述基本结构包括用于外部连接的焊盘(106)、内部连接(108)和PUF检测器连接(110);(b)用光致抗蚀剂层(200)覆盖除了PUF检测器连接(110)之外的基本结构;(c)将导电粒子随机地分布在整个所得到的表面上;(d)去除所述光致抗蚀剂层(200),使得仅有实质上在所述PUF检测器连接(110)上的粒子保留在所述表面上;(e)将所述钝化层(102)沉积在除了用于所述外部连接的焊盘(106)之外的所有元件上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于NXP股份有限公司,未经NXP股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310175059.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top