[发明专利]运用多个程序的光学邻近校正方法和用于该方法的系统

摘要

本发明涉及一种运用多个程序的光学邻近校正方法和用于该方法的系统。标记层放置于设计布局的如下区域中，在这些区域中，图像斜率小于临界图像斜率或者周长与面积之比小于临界周长与面积。可以通过对其中误差均值和/或误差均方根(RMS)超过阈值的过程条件子集分组来生成多光学邻近校正(OPC)。用运用至少一个非标准抗蚀剂模型的严格OPC处理用标记层标记的区域，而用不及至少一个非标准抗蚀剂模型严格的标准OPC程序处理布局的未标记区域。此外，可以在布局剪辑之中比较边数和区域图像对比度以确定用于边数和区域图像对比度的阈值，这些阈值可以用来确定针对每个布局剪辑是否需要多OPC。

主权项

一种对设计布局执行光学邻近校正的方法，所述方法包括：从所述设计布局生成至少一个设计剪辑，其中所述至少一个设计剪辑中的每个设计剪辑包括所述设计布局的子集；向所述至少一个设计剪辑中的每个设计剪辑分配至少一个测量部位；针对在所述至少一个设计剪辑之中的每个选择的设计剪辑，确定所述选择的设计剪辑是否满足用于将所述选择的设计剪辑分类为包括至少一个复杂设计特征的预定标准，其中所述预定标准包括以下标准中的一个标准或者逻辑组合：所述选择的设计剪辑是否具有比预定义的临界周长与面积之比更大的周长与面积之比；以及所述选择的设计剪辑是否包括如下测量部位，在该测量部位处的区域图像斜率小于预定义的临界区域图像斜率；针对被标识为满足所述预定标准的每个选择的设计剪辑，用标记层标记满足所述预定标准的区域；以及用OPC程序对未用所述标记层标记的区域执行OPC，并且用与所述OPC程序不同的至少另一OPC程序对用所述标记层标记的区域执行OPC。