[发明专利]薄膜沉积设备以及用其沉积薄膜的方法有效
申请号: | 201310181188.X | 申请日: | 2013-05-16 |
公开(公告)号: | CN103805941B | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
发明(设计)人: | 韩政洹 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24;C23C14/12 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;姚志远 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种薄膜沉积设备和利用该薄膜沉积设备沉积薄膜的方法。该薄膜沉积设备包括:腔体,具有衬底和安装在衬底上的掩模;沉积源,向衬底供应沉积气体;以及掩模测量单元,测量腔体内的掩模的状态。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 沉积 设备 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜沉积设备,包括:腔体,具有衬底和安装在所述衬底上的掩模;沉积源,安装在所述腔体内,向所述衬底供应沉积气体;以及掩模测量单元,安装在所述腔体内,所述掩模测量单元移动并跨越所述掩模以用于测量所述腔体内的所述掩模的状态。
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