[发明专利]半导体器件无效
申请号: | 201310188512.0 | 申请日: | 2013-05-21 |
公开(公告)号: | CN103872146A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 新井雅俊;田渊崇 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/06;H01L29/36 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明实施方式的半导体器件具备第1导电型半导体基板(1)、第一第1导电型半导体层(2)、第二第1导电型半导体层(3)、相互相邻的第2导电型底部层(5)、肖特基金属(6)以及阴极电极(7)。第二第1导电型半导体层设置于第一第1导电型半导体层上,具有比第一第1导电型半导体层高的第1导电型杂质浓度。相互相邻的第2导电型底部层设置于从第2半导体层的上表面朝向外延层延伸的多个沟槽的底部。肖特基金属设置于第二第1导电型半导体层上以及多个沟槽内。肖特基金属在与第二第1导电型半导体层的结部形成肖特基势垒。阴极电极设置于半导体基板上且与半导体基板欧姆连接。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,具备:第1导电型半导体基板;第一第1导电型半导体层,设置于所述半导体基板上,具有比所述半导体基板低的第1导电型杂质浓度;第二第1导电型半导体层,设置于所述第一第1导电型半导体层上,具有比所述第一第1导电型半导体层高的第1导电型杂质浓度;相互相邻的第2导电型底部层,设置于从所述第二第1导电型半导体层的上表面朝向所述第一第1导电型半导体层延伸的多个沟槽的底部,与所述第一第1导电型半导体层以及所述第二第1导电型半导体层邻接;肖特基金属,设置于所述第二第1导电型半导体层上以及所述沟槽内,与所述第2导电型底部层电连接,在与所述第二第1导电型半导体层的结部形成肖特基势垒;以及阴极电极,设置于所述半导体基板上并与所述半导体基板欧姆连接。
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