[发明专利]基于脒基硼杂苯基的前过渡金属配合物、合成方法以及应用有效
| 申请号： | 201310229544.0 | 申请日： | 2013-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN103275111A | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 陈耀峰;王秀芳;彭伟杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海有机化学研究所 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;C07F7/00;C07F11/00;C08F10/00;C08F10/02;C08F4/52;C08F4/69;C08F4/659 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 邬震中 |
| 地址： | 200032 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明涉及一类基于脒基硼杂苯基的前过渡金属配合物、合成方法及用途，此类配合物由脒基硼杂苯基配体和前过渡金属卤化物（卤素指氟、氯、溴、碘）反应或者再用金属烷基化合物分别反应制得。该类配合物在活化剂存在下，或者在活化剂和助催化剂共同存在下可以催化乙烯均聚，同时还可催化乙烯与1-己烯共聚以及乙烯与α烯烃的共聚。此类配合物的结构式通式如下： |
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| 搜索关键词： | 基于 脒基硼杂 苯基 过渡 金属 配合 合成 方法 以及 应用 | ||
【主权项】：
1.一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是具有如下结构式：![]()
上述结构式中：M为稀土金属离子或其它前过渡金属离子，所述的其它前过渡金属是第四或第六族过渡金属；R1、R3和R5为H；R2和R4为H或C1～C4的烃基；R6和R8为C1-C8烷基；R7为C1-C4的烷基或苯基；X：是卤素、C1～C4的烃基或硅(C1～C6)烷基取代的C1～C4烷基；![]()
为配位键；n为2或3。
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