[发明专利]一种电阻抗断层成像中快速最优的正则化方法有效

专利信息
申请号: 201310242312.9 申请日: 2013-06-18
公开(公告)号: CN103340625A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 董秀珍;李彦东;付峰;尤富生;史学涛;刘锐岗;季振宇;徐灿华;代萌 申请(专利权)人: 中国人民解放军第四军医大学
主分类号: A61B5/053 分类号: A61B5/053
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 汪人和
地址: 710032 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种电阻抗断层成像中快速最优的正则化方法。该方法通过建立稀疏和密集两种剖分模型,采用稳健有效的正则参数最优化方法求得稀疏模型的最优正则化参数,然后将稀疏模型的最优正则化参数作为密集模型的正则化参数初值,将稀疏模型的残差作为密集模型下残差的估计,运用迭代类正则化方法求取密集模型的最优正则化参数。该方法实现了密集剖分模型的快速最优正则化,保证了成像的速度和精度。
搜索关键词: 一种 阻抗 断层 成像 快速 最优 正则 方法
【主权项】:
一种电阻抗断层成像中快速最优的正则化方法,其特征在于,包括以下操作:1)根据待测体的基本信息,分别采用有限元方法剖分建立稀疏剖分模型和密集剖分模型的两种重构模型;2)采用稳健有效的正则参数最优化方法求取稀疏剖分模型的最优正则化参数和残差;3)将稀疏剖分模型的最优正则化参数作为密集剖分模型的正则化参数初值,将稀疏剖分模型的残差作为密集剖分模型下残差的估计;采用广义偏差原理求取密集剖分模型的最优正则化参数,在该最优正则化参数下用阻尼最小二乘法重构得到电阻抗断层成像的图像。
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