[发明专利]曝光装置及曝光方法无效
| 申请号： | 201310250558.0 | 申请日： | 2013-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN103513517A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 安井亮辅;佐藤达弥;浦和宏;今吉孝二 | 申请（专利权）人： | 株式会社有泽制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光装置及曝光方法，是将膜片用与两个图案不同的图案曝光。曝光装置包括：用于保持膜片的膜片保持部、形成有第1图案以及与所述第1图案分开的第2图案的掩模、以及对所述掩模照射光束并由经过了所述第1图案或所述第2图案的光束将所述膜片曝光的曝光部，所述曝光部具有输出用于照射所述第1图案的第1光束的第1光输出部、以及具有与所述第1光输出部输出的所述第1光束的主光线交叉的主光线并输出用于照射所述第2图案的第2光束的第2光输出部。所述膜片保持部在比所述第1光束和所述第2光束交叉的位置靠近所述掩模的位置保持所述膜片。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，包括：膜片保持部，其用于保持膜片；掩模，其形成有第1图案以及与所述第1图案分开的第2图案；和曝光部，其对所述掩模照射光束并由透过所述第1图案或所述第2图的光束将所述膜片曝光，所述曝光部具有：输出用于照射所述第1图案的第1光束的第1光输出部、以及具有与所述第1光输出部输出的所述第1光束的主光线交叉的主光线并输出用于照射所述第2图案的第2光束的第2光输出部，所述膜片保持部在比所述第1光束和所述第2光束交叉的位置靠近所述掩模的位置保持所述膜片。
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