[发明专利]标准单元版图的生成方法

摘要

本发明实施例提供一种标准单元版图的生成方法，所述方法包括：根据有源区几何图形内栅阵列的栅长尺寸生成所述有源区几何图形；生成有源区接触孔阵列和所述栅阵列；生成所述第一类引出图形；根据所述有源区接触孔阵列对应的第一类引出图形生成跳层通孔阵列；生成栅接触孔阵列，所述栅接触孔阵列包括若干个栅接触孔；生成所述跳层通孔阵列和所述栅接触孔阵列对应的第二类引出图形；生成所述标准单元版图的引出端口阵列对应的第三类引出图形。本发明实施例能够根据栅长的变化对标准单元版图的结构图形进行微调，因此能够根据精确的电路性能要求形成最合适的标准单元版图的结构图形，进而从栅长优化的角度制成低功耗集成电路。

主权项

一种标准单元版图的生成方法，其特征在于，所述方法包括：根据有源区几何图形内栅阵列的栅长尺寸生成所述有源区几何图形，其中所述栅阵列包括若干个栅；根据所述标准单元版图内各个所述有源区几何图形内的栅的位置顺序以及所述标准单元版图内相邻栅之间的分隔关系生成有源区接触孔阵列和所述栅阵列，其中所述有源区接触孔阵列包括若干个有源区接触孔组，所述有源区几何图形内相邻两个栅之间的所有有源区接触孔构成一个所述有源区接触孔组；根据所述有源区接触孔阵列对应的第一类引出图形与该有源区接触孔阵列的相对位置尺寸生成所述第一类引出图形；根据所述有源区接触孔阵列对应的第一类引出图形生成跳层通孔阵列，所述跳层通孔阵列包括若干个跳层通孔；根据所述栅阵列与所述有源区几何图形的相对位置尺寸以及所述第一类引出图形生成栅接触孔阵列，所述栅接触孔阵列包括若干个栅接触孔；生成所述跳层通孔阵列和所述栅接触孔阵列对应的第二类引出图形；生成所述标准单元版图的引出端口阵列对应的第三类引出图形，其中所述引出端口阵列包括若干个引出端口。