[发明专利]磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备

摘要

一种磁控溅射靶材护罩，包括绝缘柱、第一护罩和至少一第二护罩，第一护罩通过绝缘柱固定于镀膜腔室内壁，第一护罩开设有第一通孔以引导沉积物等杂质通过落入镀膜腔室内壁，第二护罩可拆卸地安装于第一护罩端部，与第一护罩形成收容腔以收容阴极靶材；上述磁控溅射靶材护罩，镀膜过程中产生的沉积物等杂质从第一通孔落入镀膜腔室内壁，降低了清洁难度；第二护罩可拆卸下来进行清洁，也降低了清洁难度，从而避免了阴极靶材打火现象，提高了产品的品质。同时提供一种应用该磁控溅射靶材护罩的磁控溅射卷绕镀膜设备。

主权项

一种磁控溅射靶材护罩，其特征在于，包括：绝缘柱，所述绝缘柱的一端固定于镀膜腔室内壁；第一护罩，呈板状结构，所述第一护罩与所述绝缘柱的另一端连接，以使所述第一护罩固定于所述镀膜腔室内壁，所述第一护罩开设有第一通孔，所述第一通孔可引导沉积物等杂质通过以落入所述镀膜腔室内壁；第二护罩，呈板状结构，所述第二护罩的数量为至少一个，所述第二护罩可拆卸地安装于所述第一护罩端部，所述第一护罩和所述第二护罩形成收容腔，所述收容腔用于收容阴极靶材。