[发明专利]静电防护元件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310311517.8 申请日: 2013-07-23
公开(公告)号: CN104347598A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 黄宗义;廖文毅 申请(专利权)人: 立锜科技股份有限公司
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60;H01L27/04;H01L21/82;H01L29/36
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 陈肖梅;谢丽娜
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提出一种静电防护元件及其制造方法,静电防护元件包含:P型井区、栅极、N型源极、N型漏极、以及P型轻掺杂漏极。其中,P型轻掺杂漏极形成于P型井区中,由俯视图视之,部分P型轻掺杂漏极位于栅极间隔层下方,以降低该静电防护元件的触发电压。
搜索关键词: 静电 防护 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种静电防护元件,形成于一半导体基板中,该半导体基板具有一上表面,其特征在于,该静电防护元件包含:一P型井区,形成于该上表面下;一栅极,形成于该上表面上,且部分该P型井区位于该栅极下方;一N型源极,形成于该上表面下的该P型井区中,由俯视图视之,该N型源极位于该栅极一侧之外;一N型漏极,形成于该上表面下的该P型井区中,由俯视图视之,该N型漏极位于该栅极另一侧之外;其中,该栅极将该N型源极与该N型漏极分开,该栅极包括:一介电层,形成于该上表面上,与该上表面连接;一堆叠层,形成于该介电层上,用以作为该栅极电性接点;以及一间隔层,形成于该堆叠层的侧壁外的该上表面上;以及一第一P型轻掺杂漏极,形成于该上表面下的该P型井区中,由俯视图视之,部分该第一P型轻掺杂漏极位于该间隔层下方。
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