[发明专利]用于TFT基板清洗的免损伤清洗液及其使用方法有效
| 申请号： | 201310312130.4 | 申请日： | 2013-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN103396903A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 阮军;舒滔 | 申请（专利权）人： | 惠晶显示科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C11D3/06 | 分类号： | C11D3/06;C11D3/04;B08B3/08;C11D1/83 |
| 代理公司： | 张家港市高松专利事务所(普通合伙) 32209 | 代理人： | 孙高 |
| 地址： | 215614 江苏省苏州市张家*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，包括磷酸二氢钙、磷酸、硝酸和水，其中磷酸二氢钙所占的质量百分比为1～10％，磷酸所占的质量百分比为20～40％，硝酸所占的质量百分比为5～20％。上述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液的使用方法，包括如下步骤：将表面清洁的铝硅酸盐玻璃放入上述清洗液中进行浸泡，清洗液的温度为30-36摄氏度，根据不同的铝硅酸盐玻璃的损伤种类来选择前清洗的时间，前清洗完成后，可将玻璃基板直接放入蚀刻液中进行正常蚀刻。玻璃正常蚀刻前，将TFT玻璃基板浸泡在此清洗液中，能够有效的将TFT玻璃表面的损伤降低到目标范围内，并且不会影响玻璃的其他表面效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 tft 清洗 损伤 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，其特征在于：包括磷酸二氢钙、磷酸、硝酸和水，其中磷酸二氢钙所占的质量百分比为1～10％，磷酸所占的质量百分比为20～40％，硝酸所占的质量百分比为5～20％。
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