[发明专利]一种高容量储氢薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310316724.2 申请日: 2013-07-25
公开(公告)号: CN104342617A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 王艳艳;辛恭标;李伟;郑捷;李星国 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C23C14/14 分类号: C23C14/14;C23C14/35
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 代理人: 余长江
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种新型的高容量储氢薄膜及其制备方法。储氢薄膜为有Pd覆盖层的MgxY100-x合金薄膜(其中10≤x≤90)。其制备方法为:以Mg和Y为靶材,在基体上通过磁控溅射共溅射的方法制备Mg-Y合金薄膜,并进一步在Mg-Y合金薄膜上溅射一层Pd层以保护Mg免遭氧化并催化氢的解离。实验结果表明:此方法制备的Pd/Mg78Y22薄膜不用活化即能获得1590.3mAh/g的电化学放电容量,显著高于纯镁薄膜的放电容量,并且具有良好的吸放氢动力学特性。合金薄膜在343K温度下,10分钟内达到完全放氢,表明Pd/Mg-Y薄膜在储氢材料方面,特别是作为镍氢电池的负极材料方面具有良好的应用前景。
搜索关键词: 一种 容量 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种高容量储氢薄膜,其特征在于,它为覆盖Pd层的Mg‑Y合金薄膜,Mg‑Y合金薄膜成分为MgxY100‑x,其中10≤x≤90,MgxY100‑x薄膜总厚度为100~500nm,Pd覆盖层厚度为5~20nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学,未经北京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310316724.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top