[发明专利]一种极紫外辐照材料测试系统有效
| 申请号： | 201310319441.3 | 申请日： | 2013-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN103364401A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 陈进新;吴晓斌;谢婉露;张罗莎;罗艳;王魁波 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电研究院 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 100094*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种极紫外辐照材料测试系统，EUV光源室用于容纳EUV光源，EUV光源用于辐射出宽谱近软X射线；滤波片室用于放置滤波片，滤波片用于将宽谱近软X射线滤波成窄谱EUV辐照；收集镜室用于放置收集镜，收集镜用于将EUV辐照汇聚到样品室中；光谱检测室用于安装一个反射镜和一个光谱仪，反射镜用于将来自收集镜室的EUV辐照反射到光谱议；样品室用于容纳所要测试的样品、CCD和能量计，并且能够使样品、CCD和能量计轮流移动至能够接受EUV辐照的同一位置。本发明能够得到不同样品的极紫外辐照损伤情况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 辐照 材料 测试 系统 | ||
【主权项】：
一种极紫外辐照材料测试系统，其特征在于，包括EUV光源室(1)、滤波片室(2)、收集镜室(3)、光谱检测室(4)和样品室(6)，其中所述EUV光源室(1)用于容纳EUV光源(11)，该EUV光源(11)用于辐射出宽谱近软X射线；所述滤波片室(2)用于放置滤波片，该滤波片用于将所述宽谱近软X射线滤波成窄谱EUV辐照；所述收集镜室(3)用于放置收集镜(31)，该收集镜(31)用于将所述EUV辐照汇聚到所述样品室(6)中；所述光谱检测室(4)用于安装一个反射镜(41)和一个光谱仪(42)，所述反射镜(41)用于将来自收集镜室(3)的EUV辐照反射到所述光谱仪(42)；所述样品室(6)用于容纳所要测试的样品(S)、CCD(616)和能量计(617)，并且能够使样品(S)、CCD(616)和能量计(617)轮流移动至能够接受EUV辐照的同一位置。
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