[发明专利]一种电容屏OGS结构制作工艺及其用于制造OGS结构的涂布刀头有效
申请号: | 201310329979.2 | 申请日: | 2013-07-31 |
公开(公告)号: | CN103408230A | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | 沈励;许沭华;胡里程 | 申请(专利权)人: | 芜湖长信科技股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 朱圣荣 |
地址: | 安徽省芜湖市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明揭示了一种电容屏OGS结构制作工艺及其用于制造OGS结构的涂布刀头,通过该工艺方式制作电容屏可以有效保证产品质量,同时该工艺通过颠倒制作工序以及改造涂布机刀头避让靶标的方式,使对位靶标不被BM光刻胶遮挡,可以有效确保产品能达到一些高端客户需求,避免外观麻点现象的发生。 | ||
搜索关键词: | 一种 电容 ogs 结构 制作 工艺 及其 用于 制造 刀头 | ||
【主权项】:
一种电容屏OGS结构制作工艺,其特征在于,制造步骤如下:步骤1、在盖板玻璃一面镀制ITO层;步骤2、将ITO层制作成高温ITO跳跃导体层,同时在边缘制作出两组对位靶标;步骤3、涂布光刻胶,设有对位靶标的边缘部分不涂布光刻胶,并利用步骤2中一组对位靶标将涂布的光刻胶制成BM边框;步骤4、利用步骤2中另一组对位靶标将制作绝缘架桥层,再在边缘制作出三组组位靶标;步骤5、镀制ITO层;步骤6、利用步骤4中的一组对位靶标将ITO层制成低温ITO单元图案层;步骤7、在低温ITO单元图案层上镀上一层金属导电层;步骤8、利用步骤4中的一组对位靶标将金属导电层制作成导电图层;步骤9、利用步骤4中的一组对位靶标在导电图层外制作一层树脂保护层。
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