[发明专利]一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法无效
| 申请号： | 201310331495.1 | 申请日： | 2013-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN103364477A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 孙建军;郑朝燕;陈珊 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | G01N27/48 | 分类号： | G01N27/48 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法，先用电化学方法将待测液中金属离子富集沉积到惰性工作电极表面；然后通过电位调控，在短时间内施加一适当电位，使干扰离子预先溶出；最后再用伏安法进行待测金属离子的溶出，并记录溶出伏安曲线。与常规的溶出伏安法相比，使用本发明方法对溶液中痕量金属离子进行检测时，检测限最低可以大幅度降低到1.0×10-9g/L级别。在连续测定时的重现性、稳定性及可靠性也可大大提高。该方法可以应用于海水、地表水、工业废水等水溶液，以及其它非水溶液物质（如食品、电子产品、有机物品等）经过消化后的水溶液中痕量金属离子含量的检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 电位 调控 伏安 痕量 金属 离子 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法，其特征在于：先用电化学方法将待测液中金属离子富集沉积到惰性工作电极表面；然后通过电位调控，在短时间内施加一适当电位，使干扰离子预先溶出；最后再用伏安法进行待测金属离子的溶出，并记录溶出伏安曲线。
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