[发明专利]埃索美拉唑钠新晶型及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201310332166.9 申请日: 2013-08-01
公开(公告)号: CN104341392A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 严宏营;齐创宇;张挺;刘培;徐磊;朱宙海;杜狄峥 申请(专利权)人: 上海秀新臣邦医药科技有限公司
主分类号: C07D401/12 分类号: C07D401/12;A61K31/4439;A61P1/00;A61P1/04
代理公司: 上海三和万国知识产权代理事务所(普通合伙) 31230 代理人: 章鸣玉
地址: 201203 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及晶体晶型的控制技术,更具体而言,涉及一种埃索美拉唑钠的新型晶体(定义为晶型W)及其制备方法。该晶型晶体的X射线粉末衍射图在6.4±0.2,8.8±0.2,14.0±0.2,15.7±0.2,18.1±0.2,19.5±0.2,20.7±0.2,21.2,22.6±0.2,23.7±0.2和26.6±0.2度的衍射角2θ处具有特征峰。该晶型晶体的制备方法包括:埃索美拉唑在无水乙腈中溶解后加入微量还原剂控制纯度,然后加入氢氧化钠溶液,并控制温度,得到新的晶型。
搜索关键词: 埃索美拉唑钠新晶型 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
埃索美拉唑钠W晶体,其特征是:在如下测试条件下:X射线管Cu‑Ka靶X射线波长:1.54056A 管压:40KV 管电流:60mA扫描角度:2.5°~50° 扫描速度:4°/min该晶型晶体的X射线粉末衍射图在6.4±0.2,8.8±0.2,14.0±0.2,15.7±0.2,18.1±0.2,19.5±0.2,20.7±0.2,21.2,22.6±0.2,23.7±0.2和26.6±0.2度的衍射角2θ处具有特征峰。
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