[发明专利]基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备无效
| 申请号： | 201310333311.5 | 申请日： | 2013-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN103433841A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 邓乾发;钟美鹏;吕冰海;袁巨龙;郭伟刚;王洁;姚蔚峰;赵天晨;周芬芬 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/32 |
| 代理公司： | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人： | 王利强 |
| 地址： | 310014 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备，包括上抛光盘、保持架和下抛光盘，所述上抛光盘位于下抛光盘上方，所述保持架位于上抛光盘与下抛光盘之间。所述的上抛光盘上安装第一电极板，所述第一电极板与交流电源的第一引出端连接，所述下抛光盘上安装第二电极板，所述第二电极板与所述交流电源的第二引出端连接；所述的交流电源的电流输入端与用于控制所述的交流电源的电压与频率的调频调压控制器连接。本发明有效减缓磨粒和抛光液受离心力作用从加工区域甩出问题、抛光液在加工区域分布较均匀、提升抛光效率、提高抛光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 电泳 效应 平面 研磨 抛光 圆柱形 零件 设备 | ||
【主权项】：
一种基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备，包括上抛光盘、保持架和下抛光盘。所述上抛光盘位于下抛光盘上方，所述保持架位于上抛光盘与下抛光盘之间，其特征在于：所述的上抛光盘上安装第一电极板，所述第一电极板与交流电源的第一引出端连接，所述下抛光盘上安装第二电极板，所述第二电极板与所述交流电源的第二引出端连接；所述的交流电源的电流输入端与用于控制所述的交流电源的电压与频率的调频调压控制器连接。
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