[发明专利]一种SOI_MOSFET的热阻提取方法有效
申请号: | 201310339890.4 | 申请日: | 2013-08-06 |
公开(公告)号: | CN103411997A | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | 卜建辉;李莹;毕津顺;李书振;罗家俊;韩郑生 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G01N25/20 | 分类号: | G01N25/20 |
代理公司: | 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 | 代理人: | 朱海波 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种SOI_MOSFET的热阻提取方法,该方法包括以下步骤:设计一种器件,所述器件的栅结构的两端都引出连线;在不同温度下测试所述栅结构的电阻,获得其电阻随温度变化的特性;在常温下,使所述器件处于工作状态,测试此时所述栅结构的电阻;将所述栅结构在常温工作状态下的电阻代入温度变化特性中,得到工作状态下器件的真实温度,进而求出热阻。与现有技术相比,采用本发明提供的技术方案具有如下优点:通过利用栅电阻的温度特性来提取器件的热阻,简单易行,避免了使用PIV设备带来成本过高的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 soi_mosfet 提取 方法 | ||
【主权项】:
一种SOI MOSFET的热阻提取方法,该方法包括以下步骤:a)设计一种器件,所述器件的栅结构的两端(G1)和(G2)都引出连线;b)在不同温度下测试所述栅结构的电阻,获得其电阻随温度变化的特性;c)在常温下,使所述器件处于工作状态,测试此时所述栅结构的电阻;d)将所述栅结构在常温工作状态下的电阻代入步骤b)所得到的温度变化特性中,得到工作状态下器件的真实温度,进而求出热阻。
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