[发明专利]溅射靶及包括通过其沉积的黑矩阵的有机发光显示装置无效

专利信息
申请号: 201310355881.4 申请日: 2013-08-15
公开(公告)号: CN103594486A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 韩镇宇;金义洙;朴承元;孙仁成;申柔敏 申请(专利权)人: 三星康宁精密素材株式会社
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;C23C14/34
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;韩芳
地址: 韩国庆尚*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种溅射靶及一种包括通过溅射靶沉积的黑矩阵的有机发光显示装置。所述溅射靶被用于在有机发光显示装置中沉积黑矩阵的溅射工艺中。所述溅射靶具有混合了金属和金属氧化物的金属陶瓷结构。
搜索关键词: 溅射 包括 通过 沉积 矩阵 有机 发光 显示装置
【主权项】:
一种在有机发光显示装置中沉积黑矩阵的溅射工艺中使用的溅射靶,所述溅射靶具有混合了金属和金属氧化物的金属陶瓷结构。
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