[发明专利]掩模板清洗设备有效
| 申请号： | 201310364814.9 | 申请日： | 2013-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN103451712A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 唐军 | 申请（专利权）人： | 唐军 |
| 主分类号： | C25F1/00 | 分类号： | C25F1/00;C25F7/00;C23C14/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518101 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩模板清洗设备，包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置，电解清洗装置内盛装有清洗液，清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液，高速气体带动清洗液对掩模板进行清洗；漂洗装置邻接于电解清洗装置设置，对掩模板进行漂洗；干燥装置邻接于漂洗装置，对漂洗后的掩模板进行干燥处理。本发明可有效清洗掩模板表面和网格中的颗粒杂质，并且不会地掩模板造成任何伤害，也不会对掩模板的精度产生不利影响，从而在用于制造OLED显示屏产品时，显著提高产品的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 清洗 设备 | ||
【主权项】：
一种掩模板清洗设备，用于清洗掩模板上的杂质，其特征在于：包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置，所述电解清洗装置内盛装有清洗液，所述清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液，所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板进行冲洗；所述漂洗装置邻接于所述电解清洗装置设置，对所述掩模板进行漂洗；所述干燥装置邻接于所述漂洗装置，对漂洗后的所述掩模板进行干燥处理。
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