[发明专利]一种抗蓝光镜片的制作方法

摘要

本发明涉及光学镜片的制作方法，尤其涉及抗蓝光镜片的制作方法。本发明的抗蓝光镜片的制作方法，在镜片基片的正、反两个表面分别依次进行真空蒸镀，正面由内向外共五层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层，第四层的五氧化三钛层，第五层的二氧化硅层；反面由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的二氧化锆层，第三层的二氧化硅层。本发明采用如上技术方案，可以制出衰减380nm~500nm波长光（主要是蓝光部分）50%左右（50%±3%）的抗蓝光镜片，可在一些场合应用，具有一定商业用途。

主权项

一种抗蓝光镜片的制作方法，在镜片基片的正、反两个表面分别依次进行真空蒸镀，正面由内向外共五层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层，第四层的五氧化三钛层，第五层的二氧化硅层；反面由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的二氧化锆层，第三层的二氧化硅层；具体的，镜片基片的正面的第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是：时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr；镜片基片的正面的第二层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为0.95QWOT，电子枪的电流设为409安培，充氧量设为27sccm，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr；镜片基片的正面的第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为1.00QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr；镜片基片的正面的第四层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为0.90QWOT，电子枪的电流设为409安培，充氧量设为28sccm，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr；镜片基片的正面的第五层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为1.80QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr；镜片基片的反面的第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是：时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr；镜片基片的反面的第二层的二氧化锆层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为610纳米，监控膜厚设为0.60QWOT，电子枪的电流设为180安培，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr；镜片基片的反面的第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为610纳米，监控膜厚设为1.65QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr。