[发明专利]真空膜浇注系统和真空膜浇注方法有效

专利信息
申请号: 201310397944.2 申请日: 2013-09-04
公开(公告)号: CN103465422A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 张烈;胡婷婷;金立东;赵悦;肖磊;张微;靳智鹏;吕杰;林文生;刘海燕;徐永永;马庆涛 申请(专利权)人: 北京电力设备总厂;中广核工程有限公司
主分类号: B29C39/42 分类号: B29C39/42;B29C39/02
代理公司: 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 代理人: 刘春成;张向琨
地址: 102401 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种真空膜浇注系统和真空膜浇注方法,该真空膜浇注系统包括:模具,具有冒口和浇注口;真空膜,所述真空膜包覆在所述模具的周围形成真空空间;真空泵,通过真空管道连接于所述模具的抽真空口;和混料设备,通过注料管连接于所述模具的浇注口。采用本发明的真空膜浇注系统进行浇注,在常压下无需特殊的真空设备就可进行浇注,所以可不受设备和空间制约,具有灵活的可操作性;通过由真空薄膜代替真空浇注罐,所需成本较低,简便易行,适应面广泛,适应于现场浇注、小件产品生产、试验型浇注等。
搜索关键词: 真空 浇注 系统 方法
【主权项】:
一种真空膜浇注系统,其特征在于,包括:模具,具有冒口和浇注口;真空膜,所述真空膜包覆在所述模具的周围形成真空空间;真空泵,通过真空管道连接于所述模具的抽真空口;和混料设备,通过注料管连接于所述模具的浇注口。
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