[发明专利]抗总剂量效应存储单元电路有效

专利信息
申请号: 201310398912.4 申请日: 2013-09-04
公开(公告)号: CN103489477A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 桑红石;王文;张天序;梁巢兵;张静;谢扬;袁雅婧 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G11C11/413 分类号: G11C11/413
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 朱仁玲
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种抗总剂量效应存储单元电路,全部由PMOS管构成,包括:第一、第二PMOS管,第三、第四PMOS管和第五、第六PMOS管;第一、第二PMOS管为上拉管,第三、第四PMOS管为读出访问管,第五、第六PMOS管为写入访问管。本发明的抗总剂量效应存储单元电路可自动实现抗总剂量效应加固,具有较小的存储单元面积,可用于抗辐射航空航天及嵌入式存储器等领域。
搜索关键词: 剂量 效应 存储 单元 电路
【主权项】:
一种抗总剂量效应存储单元电路,其特征在于,全部由PMOS管构成。
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