[发明专利]掩膜版及滤光板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201310407873.X 申请日: 2013-09-09
公开(公告)号: CN104423084A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 唐文静;陈颖明;范刚洪 申请(专利权)人: 上海仪电显示材料有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1339;G02F1/1335;G03F1/54;G03F7/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张亚利;骆苏华
地址: 201108 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种掩膜版及滤光板的制造方法,该掩膜版用于形成滤光板上的遮光图案层或滤光层,遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口,滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层,该掩膜版包括基板和位于基板上的遮光层,遮光层具有透光区域及遮光区域,所述透光区域与遮光图案或子画素滤光层的位置对应,所述遮光区域与遮光图案层中的第一开口或滤光层中子画素滤光层之间的间隙的位置对应,所述透光区域包括图案区域,所述图案区域具有设有多个第二开口的遮光部,所述图案区域与滤光板上副间隔柱的位置对应。利用本发明的掩膜版解决了在形成滤光板的具有段差的主间隔柱和副间隔柱时,容易出现副间隔柱剥离的问题。
搜索关键词: 掩膜版 滤光 制造 方法
【主权项】:
一种掩膜版,用于形成滤光板上的遮光图案层或滤光层,所述遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口,所述滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层,其特征在于:所述掩膜版包括基板和位于所述基板上的遮光层,所述遮光层具有透光区域和遮光区域;所述透光区域与遮光图案或子画素滤光层的位置对应,所述遮光区域与遮光图案层中的第一开口或滤光层中子画素滤光层之间的间隙的位置对应,所述透光区域包括图案区域,所述图案区域具有设有多个第二开口的遮光部,所述图案区域与滤光板上副间隔柱的位置对应。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海仪电显示材料有限公司,未经上海仪电显示材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310407873.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top