[发明专利]用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法

摘要

本发明提出一种用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，包括以下步骤：1）在晶圆上进行硬掩膜的生长；2）在硬掩膜上涂覆光刻胶；3）利用光刻工艺，将用于定位光纤阵列的梯形槽的图形转移到光刻胶上；4）利用等离子刻蚀技术，将梯形槽的图形进一步转移到硬掩膜上；5）利用等离子刻蚀技术，在晶圆上刻蚀出梯形槽，该梯形槽的侧壁与晶圆上表面的交界处为光滑的弧形面；6）除去晶圆上残留的硬掩膜。本发明可以解决目前制作光纤阵列定位槽通用的湿法腐蚀、机械加工等方法带来的定位精度差、成本高以及成品率低等问题，并且可以有效提高光纤阵列的组装效率及可靠性。

主权项

一种用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，其特征在于包括以下步骤：1）在晶圆（1）上进行硬掩膜（2）的生长；2）在所述硬掩膜（2）上涂覆光刻胶（3）；3）利用光刻工艺，将光刻版（4）上用于定位光纤阵列（5）的梯形槽（6）的图形转移到所述光刻胶（3）上；4） 利用等离子刻蚀技术，将所述梯形槽（6）的图形进一步转移到所述硬掩膜（2）上；5）利用等离子刻蚀技术，在所述晶圆（1）上刻蚀出所述梯形槽（6），该梯形槽（6）的侧壁（7）与所述晶圆（1）的上表面（8）的交界处（9）为光滑的弧形面；    6）除去所述晶圆（1）上残留的硬掩膜（2）。