[发明专利]一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法以及掩膜板

摘要

本发明实施例公开了一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法以及掩膜板，涉及显示技术领域，可以准确检测出彩膜基板中各结构单元层间位置偏差量。本发明实施例提供的方法，包括：使用至少包括第一结构单元图形、第一位置标识图形的第一掩膜板形成彩膜基板中的第一结构单元以及第一位置标识，第一位置标识位于彩膜基板的显示区域内，用于表征第一结构单元的位置；使用至少包括第二结构单元图形、第一覆盖区图形的第二掩膜板形成彩膜基板中的第二结构单元以及第一覆盖区，第一覆盖区图形位于彩膜基板的显示区域内，用于表征所述第二结构单元的位置；根据第一位置标识与第一覆盖区之间的位置偏移量，确定第一结构单元与第二结构单元之间的位置偏移量。

主权项

一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，其特征在于，包括：使用至少包括第一结构单元图形、第一位置标识图形的第一掩膜板形成所述彩膜基板中的第一结构单元以及第一位置标识，所述第一位置标识位于所述彩膜基板的显示区域内，用于表征所述第一结构单元的位置；使用至少包括第二结构单元图形、第一覆盖区图形的第二掩膜板形成所述彩膜基板中的第二结构单元以及第一覆盖区，所述第一覆盖区图形位于所述彩膜基板的显示区域内，用于表征所述第二结构单元的位置；根据所述第一位置标识与所述第一覆盖区之间的位置偏移量，确定所述第一结构单元与所述第二结构单元之间的位置偏移量。