[发明专利]透明被膜形成用涂布液及带透明被膜的基材在审
申请号: | 201310428948.2 | 申请日: | 2013-09-18 |
公开(公告)号: | CN103666007A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 箱嶋夕子;松田政幸;村口良 | 申请(专利权)人: | 日挥触媒化成株式会社 |
主分类号: | C09D7/12 | 分类号: | C09D7/12 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯莉 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种透明被膜形成用涂布液,该透明被膜形成用涂布液用于形成折射率从下层往上层逐渐降低、光透射率、透明性优异、具有防静电·防反射性能的透明被膜。该透明被膜形成用涂布液由表面处理二氧化硅类微粒(A)、表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)、基质形成成分、溶剂构成;表面处理二氧化硅类微粒(A)的平均粒径(DA)在10~200nm的范围内;表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)是2~30个平均粒径(DB)在5~20nm的范围内的金属氧化物粒子连结成链状、该金属氧化物粒子的体积电阻值在10-2~100Ω·cm的范围内的链状导电性粒子,表面处理二氧化硅类微粒(A)的浓度以固体成分计在0.05~35重量%的范围内;表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的浓度以固体成分计在0.025~25重量%的范围内;基质形成成分的浓度以固体成分计在0.1~42.5重量%的范围内;总固体成分浓度在0.5~50重量%的范围内。 | ||
搜索关键词: | 透明 形成 用涂布液 基材 | ||
【主权项】:
透明被膜形成用涂布液,其特征在于,由表面处理二氧化硅类微粒(A)、表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)、基质形成成分、溶剂构成;表面处理二氧化硅类微粒(A)的平均粒径(DA)在10~200nm的范围内;表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)是2~30个平均粒径(DB)在5~20nm的范围内的金属氧化物粒子连结成链状、该金属氧化物粒子的体积电阻值在10‑2~100Ω·cm的范围内的链状导电性粒子;表面处理二氧化硅类微粒(A)的浓度以固体成分计在0.05~35重量%的范围内;表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的浓度以固体成分计在0.025~25重量%的范围内;基质形成成分的浓度以固体成分计在0.1~42.5重量%的范围内;总固体成分浓度在0.5~50重量%的范围内。
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