[发明专利]透明被膜形成用涂布液及带透明被膜的基材在审

专利信息
申请号: 201310428948.2 申请日: 2013-09-18
公开(公告)号: CN103666007A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 箱嶋夕子;松田政幸;村口良 申请(专利权)人: 日挥触媒化成株式会社
主分类号: C09D7/12 分类号: C09D7/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯莉
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种透明被膜形成用涂布液,该透明被膜形成用涂布液用于形成折射率从下层往上层逐渐降低、光透射率、透明性优异、具有防静电·防反射性能的透明被膜。该透明被膜形成用涂布液由表面处理二氧化硅类微粒(A)、表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)、基质形成成分、溶剂构成;表面处理二氧化硅类微粒(A)的平均粒径(DA)在10~200nm的范围内;表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)是2~30个平均粒径(DB)在5~20nm的范围内的金属氧化物粒子连结成链状、该金属氧化物粒子的体积电阻值在10-2~100Ω·cm的范围内的链状导电性粒子,表面处理二氧化硅类微粒(A)的浓度以固体成分计在0.05~35重量%的范围内;表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的浓度以固体成分计在0.025~25重量%的范围内;基质形成成分的浓度以固体成分计在0.1~42.5重量%的范围内;总固体成分浓度在0.5~50重量%的范围内。
搜索关键词: 透明 形成 用涂布液 基材
【主权项】:
透明被膜形成用涂布液,其特征在于,由表面处理二氧化硅类微粒(A)、表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)、基质形成成分、溶剂构成;表面处理二氧化硅类微粒(A)的平均粒径(DA)在10~200nm的范围内;表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)是2~30个平均粒径(DB)在5~20nm的范围内的金属氧化物粒子连结成链状、该金属氧化物粒子的体积电阻值在10‑2~100Ω·cm的范围内的链状导电性粒子;表面处理二氧化硅类微粒(A)的浓度以固体成分计在0.05~35重量%的范围内;表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的浓度以固体成分计在0.025~25重量%的范围内;基质形成成分的浓度以固体成分计在0.1~42.5重量%的范围内;总固体成分浓度在0.5~50重量%的范围内。
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