[发明专利]光刻胶剥离剂组合物在审
| 申请号： | 201310438361.X | 申请日： | 2013-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN103676503A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 刘超 | 申请（专利权）人： | 刘超 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266033 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻胶剥离剂组合物，其包括多元醇混合物、氢氧化季氨盐、醇钠、吗啉、表面活性剂、水溶性有机溶剂、防腐蚀剂混合物、有机胺和去离子水。本发明提供的光刻胶剥离剂组合物对光刻胶层具有优良的剥离性，且不会对金属布线材料产生浸蚀，在半导体电路元件制造工序中，具有很大的优势。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 组合 | ||
【主权项】：
一种光刻胶剥离剂组合物，其特征在于：包括多元醇混合物、氢氧化季氨盐、醇钠、吗啉、表面活性剂、水溶性有机溶剂、防腐蚀剂混合物、有机胺和去离子水。
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