[发明专利]一种高良姜素分子印迹聚合物及其制备方法和应用无效
| 申请号： | 201310459569.X | 申请日： | 2013-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN103524677A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 孙体健;吕慧卿;刘文;乔华;姚杰;杨岚 | 申请（专利权）人： | 山西医科大学 |
| 主分类号： | C08F222/14 | 分类号： | C08F222/14;C08F220/56;C08J9/26;B01J20/26;C07D311/30;C07D311/40 |
| 代理公司： | 山西五维专利事务所(有限公司) 14105 | 代理人： | 郭海燕 |
| 地址： | 030001 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高良姜素分子印迹聚合物，属于新材料技术领域。本发明主要解决高良姜素分离方法存在分离效率差、回收率低、成本高的缺点。本发明的技术方案为：一种高良姜素分子印迹聚合物，由以下步骤制备得到：（1）、先将模板分子高良姜素与功能单体丙烯酰胺溶解于致孔剂中充分混匀；再加入交联剂和引发剂，混匀，通N2脱氧，密封，于55～65℃水浴聚合20～28h，得聚合物；（2）、将步骤（1）中所得聚合物研磨成粉末并过筛，依次用体积比为10%乙酸的甲醇溶液、甲醇洗提，去除模板分子高良姜素及残留的乙酸，真空干燥至恒重，得到高良姜素分子印迹聚合物。本发明具有高选择性、高亲和性和高效的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高良姜素 分子 印迹 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种高良姜素分子印迹聚合物，其特征是由以下步骤制备得到：（1）、先将模板分子高良姜素与功能单体丙烯酰胺按1：3～6的摩尔比溶解于致孔剂中充分混匀；再按模板分子、交联剂乙二醇二甲基丙烯酸酯与引发剂偶氮二异丁腈的摩尔比为1：20：0.2～0.25的比例加入交联剂和引发剂，混匀，通N2脱氧10～15min，密封，于55～65℃水浴聚合20～28h，得聚合物；（2）、将步骤（1）中所得聚合物研磨成粉末并过筛，依次用体积比为10%乙酸的甲醇溶液、甲醇洗提，去除模板分子高良姜素及残留的乙酸，真空干燥至恒重，得到高良姜素分子印迹聚合物。
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