[发明专利]沉积装置以及使用其的有机发光显示装置的制造方法有效
申请号: | 201310476160.9 | 申请日: | 2013-10-12 |
公开(公告)号: | CN103726030B | 公开(公告)日: | 2018-09-21 |
发明(设计)人: | 白大源 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L51/56 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 根据本发明的沉积装置,包括:用于容纳沉积物质的沉积源;沿着第一方向排列在沉积源的一侧,并且用于将所述沉积物质喷射到相对的基板上的多个喷嘴。沉积源以所述第一方向为基准被划分为中心区域以及所述中心区域两端的外围区域。沉积装置还包括:以可拆卸的方式形成于排列在各个外围区域上的所述喷嘴上,并且使得喷射所述沉积物质的末端面形成为沿着所述第一方向与所述基板表面构成倾斜角并向着所述沉积源的外侧方向的喷嘴顶部。根据本发明的实施例,通过提高入射到基板的沉积物质的入射角度,可以抑制沉积物质渗透到沉积掩膜与基板之间的阴影现象、减少沉积余量并且可以提高沉积均匀性和沉积效率。由此可以容易实现有机发光显示装置的高分辨率。 | ||
搜索关键词: | 沉积 装置 以及 使用 有机 发光 显示装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种沉积装置,包括:沉积源,用于容纳沉积物质;以及多个喷嘴,沿着第一方向排列在所述沉积源的一侧,并且用于将所述沉积物质喷射到相对的基板上,在所述第一方向上,所述沉积源被划分为中心区域以及位于所述中心区域两端的外围区域,所述沉积装置还包括:喷嘴顶部,以可拆卸的方式形成于排列在各个所述外围区域上的所述喷嘴上,所述喷嘴顶部的用于喷射所述沉积物质的末端面沿着所述第一方向与所述基板的表面构成倾斜角,并朝向所述沉积源的外侧方向,其中,所述基板沿着所述第一方向的中心与所述沉积源沿着所述第一方向的中心对准,所述沉积源的所述中心区域沿着所述第一方向具有满足下述条件的长度,
其中,L1为所述中心区域沿着所述第一方向的长度,L2为所述基板的沉积区域沿着所述第一方向的长度,T为所述基板与所述喷嘴的末端之间的距离,θ为所述倾斜角。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的