[发明专利]沉积设备及利用该沉积设备制造有机发光显示设备的方法在审
| 申请号： | 201310498599.1 | 申请日： | 2013-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN103981494A | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | 崔修赫 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强;刘奕晴 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种沉积设备，所述沉积设备包括：腔体，基底放置单元，位于所述腔体中并且在其上放置基底；以及溅射单元，用于在基底上形成薄膜。溅射单元包括第一靶材单元和面对第一靶材单元的第二靶材单元。一对靶材安装在第一靶材单元和第二靶材单元上。氩气直接注入到一对靶材之间。因此，可以更有效且稳定地形成等离子体。还公开了一种利用所述沉积设备制造有机发光显示设备的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 利用 制造 有机 发光 显示 方法 | ||
【主权项】：
一种沉积设备，所述沉积设备包括：腔体；基底放置单元，位于所述腔体中，并且将基底放置在基底放置单元上；以及溅射单元，用于在基底上形成薄膜，其中，溅射单元包括第一靶材单元和面对第一靶材单元的第二靶材单元，第一靶材单元和第二靶材单元被分别构造为安装一对靶材，以及第一靶材单元和第二靶材单元被构造为允许氩气直接注入到所述一对靶材之间。
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