[发明专利]一种电子设备的涂覆方法及其使用的装置有效

专利信息
申请号: 201310503170.7 申请日: 2013-10-23
公开(公告)号: CN103521406A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 骆志炜 申请(专利权)人: 湖南源创高科工业技术有限公司
主分类号: B05D1/18 分类号: B05D1/18;B05D3/00;B05C9/14;B05B7/04;B05B15/00
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;郑隽
地址: 410008 湖南省长沙市*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的第一目的在于提供一种电子设备的涂覆方法,主要是采用将电子设备预先冷冻至一定的温度,达到涂覆药剂优先、高效在电子设备的内部和外部进行涂覆的目的,同时结合竞争性吸附物质——水的结露特性,合理利用抽真空和冷却的途径有效避免因空气中水蒸气竞争吸附而导致的涂覆失败或效果恶化,同时利用抽吸真空过程对涂覆层的干燥过程,大幅提高了雾化处理后涂覆膜的干燥和固化效率。本发明的第二目的在于提供上述涂覆方法中使用的装置,由抽真空装置、雾化装置、控制装置以及冷冻装置四大部分,冷冻装置可以独立设置,整体结构精简,成本低;通过控制装置控制压力、温度、真空泵的运行以及涂覆药剂的雾化以及加入,操作方便。
搜索关键词: 一种 电子设备 方法 及其 使用 装置
【主权项】:
一种电子设备的涂覆方法,其特征在于:包括以下步骤:第一步:将电子设备预冷冻处理至温度B;将预冷冻后的电子设备放置于涂覆腔中;第二步:将放有预冷冻后电子设备的涂覆腔抽真空至真空度P;第三步:将雾化后的涂覆试剂充入涂覆腔中,且将涂覆腔密闭至少1秒;第四步:待步骤三中压力平衡并保压至少1秒后,将涂覆腔抽真空至真空度P;其中,所述冷冻温度B低于所述涂覆试剂中溶剂在涂覆腔内的结露温度,且高于抽真空至真空度P后所述涂覆腔内水蒸气的露点温度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南源创高科工业技术有限公司,未经湖南源创高科工业技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310503170.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top