[发明专利]利用统计定时对多图案变化性建模有效
| 申请号： | 201310529473.6 | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103793546B | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | N.巴克;B.德雷贝尔比斯;J.P.杜布奎;E.A.福尔曼;P.A.哈比茨;D.J.哈撒韦;J.G.赫梅特;N.文凯特斯沃兰;C.维斯韦斯瓦里亚;V.佐洛托夫 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G06F9/44 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 励晓林 |
| 地址： | 美国纽*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于在IC制造期间利用统计定时分析对多图案变化性建模的系统的方法。提供了在将计算机可执行代码有形地包含在计算机可读存储介质上的计算机基础结构中实现的方法，所述计算机可执行代码具有编程指令，所述编程指令可操作用来定义集成电路设计中的变化的至少一个来源。所述编程指令还可操作用来将所述集成电路设计的至少一个级别中的至少两个图案的变化的至少一个来源分别建模为变化性的至少两个来源。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 统计 定时 图案 化性 建模 | ||
【主权项】：
一种用于对多图案变化性建模的方法，所述方法，包括：定义集成电路设计中的变化的至少一个来源；将所述集成电路设计的至少一个级别中的至少两个图案的变化的至少一个来源分别建模为变化性的至少两个来源；查询与所述集成电路设计的至少一个级别的变化的至少一个来源相关联的制造测量；以及基于所述制造测量，定义修改用于所述集成电路设计的至少一个级别的变化的至少一个来源的偏移和缩放因子，其中，所述建模包括：使用所述偏移和缩放因子，对变化性的至少两个来源建模。
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