[发明专利]一种形成导电功能图案的图形化方法与应用在审

专利信息
申请号: 201310535474.1 申请日: 2013-11-01
公开(公告)号: CN103613281A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: 周忠 申请(专利权)人: 深圳市海富莱电子有限公司
主分类号: C03C17/28 分类号: C03C17/28;C04B41/48;C08J7/04;C08J7/12
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种形成导电功能图案的图形化方法与应用。该方法包括:在基材表面制备导电层,后在导电层表面覆盖遮盖层,再将设有遮盖层的导电层采用特定波长的UV光照射,后移去遮盖层,以形成所需的导电功能图案。该图形化方法利用特定波长下导电高分子聚合物对UV光照的光敏特性,使未遮盖的导电高分子聚合物全部或部分失去导电性能,同时只需将导电层经屏蔽处理、UV光照即可获得导电功能图案。这样获得的导电功能图案的色差小,且光敏导电性良好,经光敏蚀刻后导电性稳定。同时,该制备工艺简单,条件易控,成本低廉,适于工业化生产。另外,该图形化方法可应用于电容触摸屏、OLED显示器、电子标签以及EL冷光片等方面。
搜索关键词: 一种 形成 导电 功能 图案 图形 方法 应用
【主权项】:
一种形成导电功能图案的图形化方法,包括如下步骤:将导电高分子聚合物浆料涂布于基材表面,形成导电层,并对其进行固化处理;将制备的图案模板屏蔽于所述导电层表面,形成遮盖层;将设有遮盖层的所述导电层采用100‑400nm波长的UV光进行照射处理,后移去所述遮盖层,得导电功能图案。
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