[发明专利]一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台有效
申请号: | 201310547569.5 | 申请日: | 2013-11-06 |
公开(公告)号: | CN103556131A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 陈良贤;彭建;施戈 | 申请(专利权)人: | 北京泰科诺科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/458 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 102212 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台,属于材料制备加工领域。本发明改进了加热式沉积台的设计,在沉积台台面的内表面镀覆了一层100nm的氧化铬薄膜,利用氧化铬0.8的黑体系数提高了沉积台台面接收热辐射的效率。同时,对于密封在沉积台内部的加热体,其绝缘体支撑件被设计成陶瓷柱阵列,在不影响支撑功能的同时,提高了加热体的散热效率。这些改进使得这种新型的高温加热沉积台的加热效率与稳定性得以大幅提高,并可以在700℃~1000℃温度段内持续稳定工作,填补了加热式沉积台在高温段的技术缺口。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 沉积 高温 加热 | ||
【主权项】:
一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台,其特征在于:所述高温加热沉积台包括沉积台台面(2)、沉积台基座(1)和内部发热装置,其中,沉积台台面(2)构成上层结构,沉积台基座(1)支撑了整个沉积台以及内部发热装置,所述沉积台基座(1)和沉积台台面(2)构成封装,将所述发热装置密封在内部;所述内部发热装置包括发热部件和支撑部件,所述发热部件由发热体电极(3)和发热体(5)构成;所述支撑部件由发热体支撑托盘(4)和陶瓷柱阵列(8)构成,对发热体(5)形成支撑。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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