[发明专利]一种利用光化学气相沉积制备α_SiH膜的设备

摘要

发明公开了一种制备无掺杂α_SiH膜的装置，其特征在于：包括有真空室，在所述真空室内设有基片安装座，在所述真空室内部与基片安装座对应的位置上设有石英玻璃，在所述真空室上与石英玻璃对应的位置上设有汞灯，在所述真空室上连接有氩气进气管，在所述真空室外设有汞源，所述的汞源通过连接管与真空室相连接，在所述汞源上设有SiH4进气管。本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种结构简单，生产成本低，制备无掺杂α_SiH膜的装置。

主权项

一种利用光化学气相沉积制备α_SiH膜的设备，其特征在于：包括有真空室（1），在所述真空室（1）内设有基片安装座（2），在所述真空室（1）内部与基片安装座（2）对应的位置上设有石英玻璃（3），在所述真空室（1）上与石英玻璃（3）对应的位置上设有汞灯（4），在所述真空室（1）上连接有氩气进气管（5），在所述真空室（1）外设有汞源（6），所述的汞源（6）通过连接管（7）与真空室（1）相连接，在所述汞源（6）上设有SiH4进气管（8），在所述基片安装座（2）内设有基片加热器（9）。