[发明专利]一种复合掩模板组件的制作方法有效

专利信息
申请号: 201310550396.2 申请日: 2013-11-08
公开(公告)号: CN103572206B 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 魏志凌;高小平;赵录军;张炜平 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C25D1/10;H01L51/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种复合掩模板组件的制作方法,包括:S1、一次电铸:通过一次电铸形成掩模层,掩模层包括有第一开口以及掩模部,第一开口和掩模部构成掩模图案区;S2、二次电铸:通过二次电铸形成支撑层,支撑层包括有与掩模层的掩模部相对应的支撑条以及与第一开口及其相邻掩模部相对应的第二开口,支撑层与掩模层紧密结合,起到对掩模层支撑作用,且支撑层不会对第一开口形成遮挡。本发明提供的方法制作的复合掩模板,支撑条可以对下垂的掩模层提供一定的支撑力,如此可以更好的解决传统工艺中下垂问题,进而改善产品的精度和质量,使制造更大尺寸面板成为可能。
搜索关键词: 一种 复合 模板 组件 制作方法
【主权项】:
1.一种复合掩模板组件的制作方法,包括:S1、一次电铸:通过一次电铸形成掩模层,所述掩模层包括有第一开口以及掩模部,所述第一开口和所述掩模部构成掩模图案区;S2、二次电铸:通过二次电铸形成支撑层,所述支撑层包括有与所述掩模层的所述掩模部相对应的支撑条以及与所述第一开口及其相邻掩模部相对应的第二开口,所述支撑层与所述掩模层紧密结合,起到对所述掩模层支撑作用,且所述支撑层不会对所述第一开口形成遮挡;其特征在于,所述掩模层上任一所述第一开口位于与所述支撑层的所述第二开口相对应的区域内,相邻的所述支撑条的间距是所述掩模层相邻的两个所述第一开口中心间距的n倍,所述n大于等于1且为正整数。
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