[发明专利]一种用于集成电路封装中的X射线图像模糊增强方法在审
| 申请号： | 201310561410.9 | 申请日： | 2013-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN103632342A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 高红霞;徐寒;胡跃明 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 蔡茂略 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 发明公开了一种用于集成电路封装中的X射线图像模糊增强方法，包括以下步骤：（1）采集被封装元器件的X射线图像，得到X射线图像f(x,y)；（2）对所述X射线图像f(x,y)进行高斯去噪处理，得到去噪后的X射线图像g(x,y)；（3）对去噪后的X射线图像g(x,y)进行模糊增强：先提取图像中的模糊特征；然后，对模糊特征进行隶属度函数修正；最后，进行模糊域反变换；（4）对模糊增强后的图像进行图像质量评价。本发明能够使X射线图像得到有效增强，且具有简单、快捷的优点，能够为面向集成电路集成封装过程的缺陷检测提供精确定位。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 集成电路 封装 中的 射线 图像 模糊 增强 方法 | ||
【主权项】：
一种用于集成电路封装中的X射线图像模糊增强方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）采集被封装元器件的X射线图像，得到X射线图像f(x,y)；（2）对所述X射线图像f(x,y)进行高斯去噪处理，得到去噪后的X射线图像g(x,y)；（3）对去噪后的X射线图像g(x,y)进行模糊增强：先提取图像中的模糊特征；然后，对模糊特征进行隶属度函数修正；最后，进行模糊域反变换，得到模糊增强图像g′(x,y)；（4）对模糊增强后的图像进行图像质量评价。
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