[发明专利]发光装置有效
申请号: | 201310659242.7 | 申请日: | 2013-12-06 |
公开(公告)号: | CN104701433B | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 简振伟;余子强;林筱雨;许琪扬 | 申请(专利权)人: | 晶元光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/44 | 分类号: | H01L33/44;H01L33/38 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种发光装置,包含:一发光叠层包含一第一表面;一图案化介电层形成于发光叠层的第一表面上,包含一第一部分及及一第二部分大致环绕第一部分且与第一部分的厚度相同;一第一反射电极覆盖图案化介电层的第一部分;以及一阻障层覆盖第一反射电极及图案化介电层的第二部分。 | ||
搜索关键词: | 图案化介电层 第一表面 发光叠层 发光装置 反射电极 阻障层 覆盖 环绕 | ||
【主权项】:
1.一种发光装置,包含:发光叠层,包含第一表面、相对该第一表面的第二表面及连接该第一表面及该第二表面的侧面;图案化介电层,形成于该发光叠层的该第一表面上,包含第一部分及第二部分环绕该第一部分,其中该第一部分具有一第一厚度,该第二部分具有一第二厚度,相同于该第一厚度;第一反射电极,覆盖该图案化介电层的该第一部分,其中该第一反射电极与该图案化介电层的该第二部分以一间隔隔开并露出该第一表面;第二电极结构,形成于该第二表面上;阻障层,覆盖该第一反射电极及该图案化介电层的该第二部分,及位于该间隔中以隔开该第一反射电极及该图案化介电层的该第二部分;以及保护层,包覆该发光叠层的该侧面及形成于该第二电极结构之外的所有该第二表面上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310659242.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种空调用截止阀及其装配方法
- 下一篇:帧内编解码方法、编码器和解码器