[发明专利]一种差分的浮栅型DRAM存储单元无效

专利信息
申请号: 201310723105.5 申请日: 2013-12-25
公开(公告)号: CN103745742A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 李力南;翁宇飞 申请(专利权)人: 苏州宽温电子科技有限公司
主分类号: G11C11/4063 分类号: G11C11/4063
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种差分的浮栅型DRAM存储单元,包括单管浮栅动态存储单元晶体管M1和单管浮栅动态存储单元晶体管M2,M1和M2的上面是源线SL控制电路模块,M1和M2的下面是位线BL控制电路模块和灵敏放大电路模块,M1和M2的源极分别作为存储单元的两根源线SL1和SL2;M1和M2的漏极分别作为存储单元的两根位线BL1和BL2;M1和M2的第二层栅极作为存储单元的控制栅CG1和CG2。本发明的工艺和单管浮栅动态存储器的工艺一样,设计难度小,设计成本低;采用差分输入方案,不需要设计复杂度灵敏性很高的基准参考电路,差分输入可以扩大了读操作时的可区分电流范围,读操作可靠性得到明显增强。
搜索关键词: 种差 浮栅型 dram 存储 单元
【主权项】:
一种差分的浮栅型DRAM存储单元,其特征在于:包括单管浮栅动态存储单元晶体管M1和单管浮栅动态存储单元晶体管M2,所述晶体管M1和晶体管M2的上面是源线SL控制电路模块,所述晶体管M1和晶体管M2的下面是位线BL控制电路模块和灵敏放大电路模块,所述晶体管M1和所述晶体管M2的源极分别作为存储单元的两根源线SL1和SL2;所述晶体管M1和所述晶体管M2的漏极分别作为存储单元的两根位线BL1和BL2;所述晶体管M1和所述晶体管M2的第二层栅极作为存储单元的控制栅CG1和CG2。
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