[发明专利]一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置

摘要

本发明提供了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置，所述方法包括在衬底基板的第一面形成栅线、栅极和覆盖栅线和栅极的栅绝缘层；在栅绝缘层上形成半导体薄膜；利用所述栅极和栅线作为掩膜对所述半导体薄膜进行构图，形成位于所述栅线和栅极所在区域内部的源半导体层；利用所述源半导体层制作目标半导体层。本发明能够避免有源层错位，进而避免由于有源层错位所导致的显示器亮度不均匀的问题。

主权项

一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板的第一面形成栅线、栅极和覆盖栅线和栅极的栅绝缘层；在栅绝缘层上形成半导体薄膜；利用所述栅极和栅线作为掩膜对所述半导体薄膜进行构图，形成位于所述栅线和栅极所在区域内部的源半导体层；利用所述源半导体层制作目标半导体层；所述利用所述栅极和栅线作为掩膜对所述半导体薄膜进行构图，形成位于所述栅线和栅极所在区域内部的源半导体层具体为：在包括所述半导体薄膜的基板上形成正性光刻胶薄膜；从所述基板的与第一面相对的第二面对所述正性光刻胶薄膜进行曝光处理；对曝光后的正性光刻胶薄膜进行显影，去除位于栅线和栅极所在区域之外的被曝光的正性光刻胶，以暴露位于栅线和栅极所在区域外的半导体薄膜；去除暴露出的位于栅线和栅极所在区域外的半导体薄膜，得到所述源半导体层。