[发明专利]一种被动偏光式三维显示装置及其制作方法有效
申请号: | 201310738708.2 | 申请日: | 2013-12-27 |
公开(公告)号: | CN103698894A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 申莹;尹傛俊;涂志中 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B27/26 | 分类号: | G02B27/26;H04N13/04;G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李娟 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种被动偏光式三维显示装置及其制作方法,在阵列基板面向第一偏光片一侧设置遮光条,在彩膜基板面向阵列基板一侧设置多个黑矩阵条,令多个遮光条及多个黑矩阵条在位相差结构上的正投影覆盖位相差结构上各图案位相差膜片的分界线。在遮光条与黑矩阵条的遮光作用下实现在保证开口率的同时,增大该被动偏光式三维显示装置相邻像素之间无光学干扰的视角,进而增大了被动偏光式三维显示装置的垂直视角。 | ||
搜索关键词: | 一种 被动 偏光 三维 显示装置 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种被动偏光式三维显示装置,包括液晶面板及位于所述液晶面板出光侧的位相差结构,所述液晶面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板、以及位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层,所述位相差结构上排列多个图案位相差膜片;其特征在于,包括:所述阵列基板远离所述液晶层的一侧存在多个遮光条,所述多个遮光条在位相差结构上的正投影覆盖所述位相差结构上各图案位相差膜片分界线;所述彩膜基板面向所述阵列基板一侧存在多个黑矩阵条,所述多个黑矩阵条在所述位相差结构上的正投影覆盖所述位相差结构上各图案位相差膜片分界线。
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