[发明专利]一种用于填充虚拟图案和参考图层相关性检查的版图结构在审
| 申请号： | 201310746373.9 | 申请日： | 2013-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN104750894A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 樊强;李雪;李天真;张美丽 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于自动填充虚拟图案和参考图层相关性检查的版图结构及方法。所述版图结构包括：所有的参考图层，所述参考图层包括内部图层以及边界图层，其中内部图层包括所有的常规参考图层和所有的初始虚拟图案层，所述常规参考图层和所述初始虚拟图案层包围在所述边界图层之中；其中，各内部图层窗口边长的关键尺寸为100-400μm，相邻的内部图层之间的间距为100-400μm，以使版图结构恰当兼容所有光罩图层的密度检查规则从而实现正确检验相关性；自动填充虚拟图案，所述自动填充虚拟图案将会插入在所述版图结构中去检验相关性是否正确。本发明中提供了一种新的版图结构，以实现在QA过程中自动的、完全的、正确的完成所述虚拟图案和参考图层之间的相关性检查。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 填充 虚拟 图案 参考 相关性 检查 版图 结构 | ||
【主权项】：
一种用于自动填充虚拟图案和参考图层相关性检查的版图结构，包括：所有的参考图层，所述参考图层包括内部图层以及边界图层，其中所述内部图层包括所有的常规参考图层和所有的初始虚拟图案层，所述常规参考图层和所述初始虚拟图案层包围在所述边界图层之中；其中，各内部图层窗口边长的关键尺寸为100‑400um，相邻的所述内部图层之间的间距为100‑400um，以使所述版图结构恰当兼容所有光罩图层的密度检查规则从而实现正确检验相关性；自动填充虚拟图案，所述自动填充虚拟图案将会插入在所述版图结构中去检验相关性是否正确。
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