[发明专利]真空反应腔以及真空加工设备有效
| 申请号： | 201310753412.8 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN103695860A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 王轶南;张福刚;张巍;刘祖宏;侯智;吴代吾 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/52 | 分类号： | C23C14/52;C23C14/00;C25F3/02;C25F7/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;吕品 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开的真空反应腔以及真空加工设备，其中，本发明的真空反应腔，包括多个壁板，多个壁板中至少一个壁板上设置有观察装置，观察装置包括设置于壁板上的观察窗以及用于遮挡观察窗的遮挡板，遮挡板可在遮挡观察窗的第一位置以及不遮挡观察窗的第二位置之间运动。本发明的真空加工设备，包括本发明的真空反应腔。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备，遮挡板既保护观察窗，还有效遮挡观察窗四周的壁板。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备可以有效保护观察窗，延长其寿命，并有效保证观测效果；同时遮挡板也保护了观察窗四周的壁板——即壁板上的最易被刻蚀区域，使得壁板整体寿命延长，减少高频维护的费用和人力损失。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 反应 以及 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种真空反应腔，包括多个壁板，多个所述壁板围合形成用于容纳工件的腔室，多个所述壁板中至少一个壁板上设置有观察装置，其特征在于，所述观察装置包括设置于所述壁板上的观察窗以及设置于所述壁板的面向腔室的内部的一侧的用于遮挡观察窗的遮挡板，所述遮挡板可在遮挡所述观察窗的第一位置以及不遮挡所述观察窗的第二位置之间运动。
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