[发明专利]一种掩膜板及其制作方法有效
| 申请号： | 201310754624.8 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN103695842A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 谢志生;苏君海;柯贤军;何基强;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利半导体有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;G03F1/64 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 516600 广东省汕尾*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种掩膜板及其制作方法，所述掩膜板应用在有机发光二极管显示装置的真空蒸镀工艺中，包括：掩膜框；固定在掩膜框上的掩膜，掩膜上包括多个掩膜图案块，掩膜图案块包括贯穿所述掩膜的通孔；其中，掩膜上朝向所述掩膜框的表面还包括位于所述掩膜图案块外其他区域的支撑条，支撑条的厚度大于0.03mm。由于在掩膜图案块外的区域设置了支撑条，支撑条的厚度大于所述掩膜图案块所在区域的厚度，能够在一定程度上为掩膜图案块提供支撑力，从而增强掩膜板的机械强度，避免掩膜板在应力的作用下发生弯曲。同时，本发明还提供一种采用多次刻蚀制作上述掩膜板的方法，能够保证有机材料的蒸镀质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，应用在有机发光二极管显示装置的真空蒸镀工艺中，其特征在于，包括：掩膜框，所述掩膜框带有开口；固定在所述掩膜框上的掩膜，所述掩膜上包括多个掩膜图案块，所述掩膜图案块包括贯穿所述掩膜的通孔；其中，所述掩膜上朝向所述掩膜框的表面还包括支撑条，所述支撑条位于所述掩膜图案块外的区域，所述支撑条的厚度大于0.03mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利半导体有限公司，未经信利半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310754624.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
